化学机械抛光技术是广泛用于集成电路芯片、磁记录硬盘、高性能光学玻璃等产品的表面精加工技术，而抛光液是化学机械抛光技术的关键，其性能直接影响抛光效果。目前，高性能抛光液的生产被国外公司所垄断，使我国信息技术等关键领域的发展受制于人。稀土院经过不断的努力探索和尝试，在小粒径、高分散纳米氧化铈的制备方面有所突破，所制备的氧化铈纳米材料一次粒径在20～50nm,二次粒径在220～280nm,在抛光试验中，经过该样品配制的抛光液抛光后的硬盘玻璃基片具有较好的平整度，表明该样品适合在精抛方面使用。该方法已经在中试线上经过多次放大实验，性能较为稳定。若能实现技术转化，将产品推向市场，将能取代一大部分进口产品，社会经济效益显著。