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超宽光谱超高效抗反表面制备技术
一、基本信息
标题 超宽光谱超高效抗反表面制备技术 单位 清华大学
电话 包头市科技局科技合作处5618486 行业类别 其他
二、内容信息

1 成果简介

材料表面的光学抗反射与吸收性能,在太阳能高效吸收和利用、光电子产品、辐射传热 设备、生物光学器件、红外传感和成像、军事隐身、以及机载/星载设备等诸多领域均具有 广阔的应用前景。

10 年来,清华大学材料学院激光材料加工研究中心,在国家自然科学基金重大国际

合作项目、面上项目、国家科技部 973 项目、北京市教委科技计划项目以及清华大学自主研 究项目等项目支持下,运用新一代高功率高频率超快激光系统,综合几何陷光、等离激元 共振、以及梯度折射率等独特光学响应机制,制备出独特的微纳米结构,实现材料表面超宽 光谱高效吸收性能,达到国际前沿水平。

本中率超用机研究出并 了材料表面微纳米结构的超快激光直写制备、复合制备等核心技术,成功实现了多种金属材 料表何尺结构谱带 射性能,取得了一系列创新性成果,发表了多篇高水平的学术论文,授权、申请多项发明专 利。

本技术成果具有如下特点:

l 广泛的材料适用性,可使铜、铝、钛、钢等多种金属材料表面的反射率大幅降低, 如在紫外-近红外(200 nm~2500 μm)范围内,其半球反射率分别降至 5%10%5%5% 以下,如图 1 所示;

l 超宽的波谱有效性,在紫外-远红外(200 nm~300 μm)的入射波长范围内,都可实 现显著的抗反射性能,如所制备的铜表面微纳米结构在 UV-VISUV-NIRUV-MIRUV-FIR 波谱区的平均半球反射率可分别降至 1.7%4.1%5.4%8.2%,如图 2 所示;

l 超宽的角谱有效性,在 0~60º 的入射角范围内,都可实现显著的抗反射性能,如所 制备的铜表面微纳米结构在 200~800 nm 波谱范围内的镜面反射率始终低于 0.1%,如图 3  示;

l 超高的吸收率/超低的反射率/超强的光热转化效率,超快激光直接制备的金属表面 微纳米结构在紫外-近红外范围内可实现 0.29%的极低半球反射率,超快激光复合制备的

---纳米线金属-氧化物多级结构在中红外范围内可实现 0.6%的极低半球反射率,在太 阳光辐照下金属表面超宽光谱高效吸收微纳米结构可实现 60%以上的整体光热转化效率, 如图 4 所示;

l     超强宽光构样 品交国家准检,即家太能热量监检验心(进行光学吸 收及热老250保温 200h、氙 24h 老化(NaCl  溶液喷淋 24h)三种测试条件下,所制备的微纳米结构均保持稳定,没有出现


 

性能的减弱和衰退。 上述性能指标均达到国际领先水平,并可满足多种材料和实际工况条件下的应用需求。

查新表明,国内外目前尚未发现有采用相似方法或达到相似性能的技术方案。同时,由于本 研究功率光系上述 高效吸收表面的制备技术还具备以下几方面的工艺优势:

l 可柔性、非接触加工,从而可对任意外形的金属表面进行抗反射处理;

l 可设计、图案化加工,从而可对金属表面的任意图案化区域进行特定抗反射处理;

l 可大面积、连续、稳定、高重复性加工,从而可进行连续 24 小时的规模化处理;

l 无须添加任何试剂,无须任何化学反应,环境友好。

2 应用说明

研究中心已为中国兵器工业集团昆明物理研究所、中国航天科技集团五院 502 所、 中国电子科技集团 11 所,全球最大的电影摄影器材专业制造厂商德国 ARRI 公司、全球最 大的半导体光刻机制造厂商荷兰 ASML 公司等制备样品,经多个国内外权威第三方机构检 测,均验证优异抗反性能,且性能指标稳定可靠。

3 效益分析

本技术成果在国内外尚无同类产品,在太阳能利用器件、光电子设备、红外传感和成像 仪器、隐身功能表面等诸多领域有着广泛的需求,具有很大的市场应用和推广空间。

4 合作方式

转让或者联合推广

5 所属行业领域

先进制造领域。


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1 超快激光制备的黑色金属及其在紫外-可见-近红外波段的反射光谱

a b c d


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2 原始铜和铜表面在长波范围的反射光谱对比

(a)  中红外波段反射光谱 b 远红外波段反射光谱 c 不同波段平均反射blob.png

 3 “铜表面与蓝膜涂层表面在不同入射角度下的镜面反射光谱对比


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 4 “铜表面的吸光及光热转化性能

 






 



三、附件下载

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